中國最先進的光刻機是什麼

中國最先進的光刻機是上海微電子裝備有限公司（SMEE）生產的90納米步進投影光刻機。這款光刻機於2016年發布，是中國自主研發的最先進的光刻機。

光刻機是製造集成電路（IC）的核心設備，用於將電路圖案轉印到矽片上。90納米工藝意味著可以在一個單元內刻畫出90納米寬的線條，這對於製造高性能的集成電路來說是非常重要的。

雖然90納米工藝在當今全球範圍內已經不是最先進的水平（目前最先進的工藝已經達到5納米甚至更小），但對於中國來說，這款光刻機的研發成功具有里程碑式的意義，它標誌著中國在高端光刻機領域取得了一定的突破，有助於提升國內集成電路產業的自主創新能力和國際競爭力。