世界光刻機最小多少納米

光刻機是製造集成電路（IC）和微機電系統（MEMS）等微小結構的關鍵設備，它們用於在矽晶圓上刻畫複雜的電路圖案。光刻機的解析度決定了它能夠刻畫的最小特徵尺寸，這個尺寸通常以納米（nm）為單位來衡量。

截至我的知識更新日期（2023年），世界上最先進的光刻機是由荷蘭公司ASML生產的極紫外（EUV）光刻機。這些光刻機能夠生產最小特徵尺寸為7納米（nm）的電路。然而，這些光刻機的實際解析度可以更高，因為通過多重圖案技術和其他工藝優化，它們可以生產出特徵尺寸低至5納米甚至更小的電路。

需要注意的是，光刻機的解析度並不是固定不變的，它隨著技術的進步和工藝的改進而不斷提高。因此，未來的光刻機可能會實現更高的解析度，能夠生產出更小特徵尺寸的電路。