Nikon光刻機的最小光源波長為多少nm

Nikon 是一家知名的光刻機製造商，其光刻機用於半導體製造過程中的光刻步驟。光刻機的性能指標之一是光源的波長，波長越小，解析度越高，可以製造出更小尺寸的晶體管和更密集的電路。

Nikon 生產的光刻機使用過多種光源波長，包括紫外線（UV）和極紫外線（EUV）。其中，EUV 光刻機使用波長更短的極紫外線光，這使得它們能夠生產出更小、更複雜的晶片。

Nikon 的 EUV 光刻機使用的是波長為 13.5 納米（nm）的光源。這是目前最先進的光刻技術，能夠生產出 7 納米及以下的工藝節點晶片。然而，Nikon 在市場上的 EUV 光刻機競爭力不如其主要競爭對手 ASML，後者是目前全球最大的 EUV 光刻機供應商。