華為光刻機技術最新消息

華為光刻機技術最新的訊息有：

• 研發進展。華為正在研發自己的光刻機，並取得了顯著進展。雖然目前的光刻機還是使用荷蘭的ASML公司的設備，但華為已經在嘗試使用自研材料和部件，試圖擺脫對外部供應商的依賴。此外，華為還計畫研發使用中紅外雷射器的晶片，以實現存算一體，從而降低對電子系統的功耗和尺寸的要求。
• 合作進展。華為與國內設備企業上海微電子一起研發光刻機，雖然現階段還未能成功研發出光刻機，但華為已與台積電合作，通過導入ASML的二手光刻機生產出7nm工藝晶片，緩解了國內晶片短缺的問題。

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