最新國產光刻機

中國在光刻機領域的發展取得了顯著的進步，但與國際領先的製造商如ASML相比，中國國產光刻機在技術上仍存在一定的差距。中國的國產光刻機製造商，如上海微電子裝備（SMEE），已經能夠生產出90納米製程的光刻機，並在努力研發更先進的機型。

SMEE是中國領先的光刻機製造商，它已經成功研發出多款光刻機，用於不同層次的晶圓製造。這些光刻機包括步進式光刻機和投影式光刻機，可用於從低端到中端的晶圓製造。SMEE的最新光刻機型號和技術細節可能會隨著時間的推移而變化，因此最新的信息可能需要從官方渠道或相關的新聞報導中獲取。

除了SMEE，中國還有其他一些研究機構和公司也在光刻機技術上進行研發，例如中科院微電子研究所和中芯國際等。這些機構和公司都在努力縮小與國際領先水平的差距，並推動中國半導體產業的發展。

需要注意的是，光刻機是半導體製造中技術含量極高的設備，其研發和製造需要大量的資金和技術積累。因此，國產光刻機的發展是一個長期且複雜的過程，需要政府、企業和研究機構的共同努力。